Samsung ve ASML’den High NA EUV Hamlesi: 12 İnç Fotomaske Dönemi Başlıyor
Samsung ve ASML, High NA EUV üretiminde 12 inç fotomaske geliştirmek ve teknolojiyi 2028’e kadar DRAM seri üretimine taşımak için ...
Devamını okuDetailsSamsung ve ASML, High NA EUV üretiminde 12 inç fotomaske geliştirmek ve teknolojiyi 2028’e kadar DRAM seri üretimine taşımak için ...
Devamını okuDetailsSamsung, Mistral AI modellerini çip tasarımı ve üretiminde şirket içi altyapıda kullanacak. İş birliğinin verim, güvenlik ve rekabet boyutunu inceledik.
Devamını okuDetailsIntel ile Lens Technology, yapay zekâ ve veri merkezi çiplerinde daha yoğun bağlantı ve daha iyi enerji verimliliği için cam ...
Devamını okuDetailsApple’ın ABD üretimi çiplere yönelik Broadcom anlaşması, yalnızca tedarik değil; politika, maliyet ve ürün stratejisi açısından da önemli.
Devamını okuDetails© 2026 almadanincele.com. Tüm hakları saklıdır.
© 2026 almadanincele.com. Tüm hakları saklıdır.